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DNP accelera lo sviluppo del processo di produzione di fotomaschere per litografia EUV adatta per dispositivi da 2 nm

- Partecipa al progetto R&S NEDO in qualità di appaltatore Rapidus -

original Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

Image of EUV lithography with pellicle, a protective film for the photomask (Photo: Business Wire)

TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP, TOKYO: 7912) ha iniziato a sviluppare il processo di fabbricazione di una fotomaschera impiegabile con il processo di litografia ultravioletta estrema (EUV) – il processo all’avanguardia per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttori – impiegabile per dispositivi logici a semiconduttore da 2 nanometri (10-9 metri).

Inoltre DNP opererà da appaltatore fornendo la tecnologia appena sviluppata a Rapidus Corporation (Rapidus), che ha sede a Tokyo. Rapidus sta partecipando al Progetto di Ricerca e Sviluppo delle Infrastrutture potenziate per Sistemi di comunicazione e informatici post-5G avviati dalla NEDO (New Energy & Industrial Technology Development Organization).

Il testo originale del presente annuncio, redatto nella lingua di partenza, è la versione ufficiale che fa fede. Le traduzioni sono offerte unicamente per comodità del lettore e devono rinviare al testo in lingua originale, che è l'unico giuridicamente valido.

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DNP: Yusuke Kitagawa, +81-3-6735-0101
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Industry:

Dai Nippon Printing Co., Ltd.

TOKYO:7912
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