栃木县小山市--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)--半导体光刻光源主要制造商Gigaphoton株式会社（总部: 栃木县小山市、董事长兼总经理: 浦中克己）宣布，机加工应用方向的KrF准分子激光器“G300K”已被台湾国家实验研究院的项目采用，并于12/27交付给国立成功大学。
国立成功大学是台湾国家实验研究院（NARLabos）的参与机构，作为一项国家项目，目前正在开展使用分子激光器的IC封装技术研究。此次采用的Gigaphoton的KrF激光器“G300K”根据以微烧蚀为代表的“加工优化”理念开发而成，被认为最适合此项研究，并得以实现。
Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“在半导体光刻光源以外的其他领域应用的GIGANEX系列G300K，系根据Gigaphoton多年积累的可实现99%以上的高运转率、高输出的光刻光源技术开发而成，确信它会为此次项目做出贡献。我们希望GIGANEX系列能够为广大客户提供解决方案，并将继续应用于新的应用领域，为新一代产业的发展作出贡献。”
关于Gigaphoton
作为半导体光刻用DUV光源研发和制造的领先企业，Gigaphoton公司从成立伊始就向世界半导体制造商提供许多运用最先进技术的解决方案。同时致力于研发EUV光源以及光刻领域之外的DUV光源研发。GIGAPHOTON不仅仅拥有强大的研发团队，在制造、销售、维护服务也拥有知识丰富的专业团队，我们会继续从客户视角出发，持续的提供行业最高水平的服务
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