栃木縣小山市--(BUSINESS WIRE)--(美國商業資訊)--半導體微影光源製造商 Gigaphoton株式會社（總公司: 栃木縣小山市；總裁：浦中克己）宣布開始量產新型KrF曝光機用光源「G60K」。
在全球半導體依舊短缺的情況下，受到用於RF通信處理和車載半導體等40nm前成熟節點 (node) 的半導體需求大增，以及採用3D NAND生產技術後層數的增加使容量得以擴大，預計直到2023年為止，KrF微影需求將增加240%（與2019年相比）。＊
自從2020年11月出貨以來，受到廣大用戶肯定的Gigaphoton新型KrF微影光源G60K，為了回應大量的需求，已於今年11月開始量產。G60K的最大特徵在於，提升業界所追求的運作率和提供環境永續性。透過60瓦高輸出以提升曝光機處理能力，同時藉由提升模組耐久性來降低維修機率，以實現運作率的提高。改良後的新型電源，可減低超過5%的耗電量，為用戶提供永續性的同時還可降低成本。此外，G60K平台最多可擴充到輸出90瓦，還可因應後續擴增總處理能力 (throughput) 的需求。
Gigaphoton總裁兼CEO浦中克己表示：「Gigaphoton也投入開發投資成熟製程節點世代，透過提供運用最尖端技術的產品，為提升客戶運作率和永續性做出貢獻。」
* 在本公司分析KrF曝光機處理半導體晶片數
Gigaphoton公司簡介
Gigaphoton作為開發和生產半導體微影DUV光源先驅企業，從成立初期便對全球半導體製造商，提供運用最尖端技術的多項解決方案。此外，Gigaphoton也積極投入開發EUV光源及微影以外領域的DUV光源。Gigaphoton從產品研發到生產、銷售及維護始終站在用戶立場，以具備豐富知識與經驗的專業集團之姿，為用戶提供業界最高水準的支援。
詳細資訊請參閱網站www.gigaphoton.com
