枥木县小山市--(BUSINESS WIRE)--(美国商业资讯)--2021年10月26日，半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社（总部：枥木县小山市取缔役社长：浦中克己）宣布，最先进的ArF浸液光刻光源“GT66A”在世界半导体制造商中正式投入量产出货。
最近，数位设备和云设备在全球范围内迅速增多，用于这些设备的半导体需求也在急剧增加。并且，在企业端DX的渗透、碳中和的EV增产、可再生能源的转型等社会基础建设中半导体发挥着核心作用。特别是自动驾驶以及兼具高速运算·低功耗的高端设备的市场需求增加更加剧半导体的需求。
GT66A既可以对应此类高端设备所需5nm半导体制程，也可应对下世代的半导体制程生产。
另外，GT66A通过降低散斑对比度（30%），降低了布局与光阻曝光图像的EPE偏差，从而抑制与图像细微粗糙度相关的LER、以及由于粗糙度产生的图像宽度偏差相关的LWR，从而实现成品率的提高。另外，由于导入了高耐久零件设备的维护周期延长了30%，从而提高了设备的使用率以及提高生产效率。
GIGAPHOTON代表取缔役兼CEO浦中克己进行了如下阐述。为了实现先端半导体的稳定·高效率的生产、特别是最先端的生产制程的生产性能，GT66A应运而生。GIGAPHOTON会持续致力于半导体工厂的市场性能最大化，并持续不懈地努力。”
关于GIGAPHOTON
GIGAPHOTON作为曝光领域的DUV光源研发与制造的领先企业，与制造，从公司成立开始持续向全球半导体制造商提供使用先端技术的诸多解决方案。并且也致力于EUV光源的研发。GIGAPHOTON不仅仅拥有强大的研究开发团队，在制造、销售、维护服务也拥有知识丰富的专业团队，我们会继续从客户视角出发，持续的提供行业最高水平的服务。
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