TOKIO--(BUSINESS WIRE)--Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (TOKIO: 4063) (hoofdkantoor: Tokio; voorzitter: Yasuhiko Saitoh; hierna aangeduid met “Shin-Etsu Chemical”) heeft apparatuur ontwikkeld voor de productie van substraten voor halfgeleiderpacks aan de hand van een nieuwe productiemethode te gebruiken na het productiesysteem voor de productie van micro-LEDs. De apparatuur bestaat uit een verwerkingssysteem met hoogwaardige prestaties dat gebruik maakt van een excimeerlaser waarin een dual damascene-methode, zoals gebruikt tijdens de frontend van het proces voor productie van halfgeleiders, wordt toegepast in het proces voor productie van substraten voor de packs (backend-proces) (dual damascene-methode van Shin-Etsu).
Deze bekendmaking is officieel geldend in de originele brontaal. Vertalingen zijn slechts als leeshulp bedoeld en moeten worden vergeleken met de tekst in de brontaal, die als enige rechtsgeldig is.
