TOKYO--(BUSINESS WIRE)--Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (TOKYO: 4063) (ufficio centrale: Tokyo; presidente: Yasuhiko Saitoh; di seguito, "Shin-Etsu Chemical") ha sviluppato un'attrezzatura per la produzione di substrati di pacchetti di semiconduttori con un nuovo metodo di produzione, in seguito al sistema di produzione di micro-LED. Si tratta di un'apparecchiatura di lavorazione ad alte prestazioni che utilizza il laser a eccimeri e che applica al processo di produzione dei substrati dei pacchetti (processo back-end) un metodo a doppia lavorazione Damasco, utilizzato anche nel processo di produzione dei semiconduttori (metodo a doppia damascatura Shin-Etsu).
Il testo originale del presente annuncio, redatto nella lingua di partenza, è la versione ufficiale che fa fede. Le traduzioni sono offerte unicamente per comodità del lettore e devono rinviare al testo in lingua originale, che è l'unico giuridicamente valido.
