日本栃木縣小山市--(BUSINESS WIRE)--(美國商業資訊) -- 半導體微影光源主要生產廠商Gigaphoton株式會社（公司總部：栃木縣小山市、總裁兼執行長：浦中克己）公布，已於2019年2月開始推出最大輸出200W的加工裝置專用的KrF雷射器G200K。
Gigaphoton曾於2016年發表，運用半導體微影所培育高端技術能力的高可靠性準分子雷射「GIGANEX」（GIGANEX）系列，並在作為第1波推出的產品上，發表FPD製造領域的退火工程用KrF雷射器GT600K。本次發布的加工裝置專用KrF雷射器G200K，則屬於第2波產品。最大輸出達200W的G200K，透過納入Gigaphoton雷射器的性能安定化技術和延長模組壽命技術，實現高度可靠性，可望成為滿足客戶需求的加工裝置專用雷射器。
Gigaphoton總裁兼執行長浦中克己指出：「Gigaphoton的『GIGANEX』秉持將在半導體微影用準分子雷射器領域長年來培育的技術應用到其他領域的理念研制而成，已形成系列化產品。在本次第2波G200K的推波助瀾下，更進一步擴大產品陣容。Gigaphoton往後也將繼續藉由『GIGANEX』提供解決方案，以期為產業界奉獻一己之力。」
GIGAPHOTON公司簡介
GIGAPHOTON公司成立於2000年，作為一家雷射器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生產廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從產品研發到生產、銷售及維護，為用戶提供業界最高水準的支援。更為詳細的介紹請造訪：https://www.gigaphoton com.
