日本小山市--(BUSINESS WIRE)--(美國商業資訊)-- 半導體微影光源製造商Gigaphoton Inc.（總公司：栃木縣小山市；總裁兼執行長：Tatsuo Enami）宣布，「G300K」微型過孔加工光源已交付給一家專門從事後端裝置製造的日本裝置製造商，並且已在一家美國公司的工廠成功安裝整合式系統。
Gigaphoton利用其在半導體微影光源方面的專業知識，開發了用於先進封裝製程的超精細燒蝕加工光源。
G300K是一種以KrF (248nm)波長為基礎的準分子雷射器，被整合到半導體封裝基板的加工裝置中。它提供高功率、高重複率、高可靠性和長壽命模組。準分子雷射器主要用於形成直徑為10μm或更小的微通孔以及溝槽圖案的過程。預期它將被用於製造利用小晶片的2.5D/3D封裝，並可望得到越來越多的應用，主要用於AI小晶片。
Gigaphotoon總裁兼執行長Tatsuo Enami表示：「在Gigaphoton，除了研發用於半導體微影的光源外，我們還一直在探索將準分子雷射器應用於其他領域的各種可能性。
我們將繼續加快研發工作，以進軍新的領域。
身為半導體製造業的重要光源製造商，我們將透過不斷研發新製程來促進準分子雷射器的進一步應用，從而繼續為產業貢獻力量。」
關於GIGAPHOTON
GIGAPHOTON成立於2000年，做為一家半導體微影光源製造商，自成立以來一直為全球的半導體製造商提供有價值的解決方案。從研發到生產、銷售及維護服務的每個階段，GIGAPHOTON均致力於從日常用戶的角度出發，為其提供世界一流的支援。如欲瞭解更多資訊，請造訪https://gigaphoton.com/
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